Новый центр, получивший название EUV Accelerator, расположенный в нанотехнологическом комплексе Олбани в Нью-Йорке, является первым научно-исследовательским и опытно-конструкторским учреждением, созданным под эгидой Закона CHIPS.

EUV-ускоритель, нацеленный на развитие полупроводниковой промышленности США, будет оснащен самым современным оборудованием для производства микросхем, что позволит исследователям отрасли сотрудничать с партнерами по обучению в университетах.

«Когда в Соединенных Штатах будут проводиться передовые исследования, мы сможем создавать самые передовые чипы в мире, что даст нам военное преимущество», — заявил сенатор Шумер. «Разумеется, это также гарантирует американской экономике и бизнесу преимущество в области передовых полупроводников».

Между тем правительство США считает EUV важной технологией в производстве современных чипов и ставит перед собой цель освоить эту технологию.

Вашингтон также считает, что доступ к EUV, исследования и разработки необходимы для укрепления лидерства США, сокращения времени и затрат на создание прототипов, а также для создания и поддержания экосистемы рабочей силы в полупроводниковой отрасли.

Ожидается, что после ввода в эксплуатацию ускоритель EUV сосредоточится на разработке усовершенствованных EUV с высокой числовой апертурой, а также на исследовании других технологий на основе EUV.

Ожидается, что центр предоставит доступ к стандартному EUV NA в следующем году и к EUV с высокой NA в 2026 году членам Национального центра полупроводниковых технологий США (NTSC) и Natcast.

«Запуск центра знаменует собой важную веху в обеспечении того, чтобы Соединенные Штаты оставались мировым лидером в области инноваций в области полупроводников», — заявила Джина Раймондо, министр торговли США.

В феврале администрация Байдена объявила о предоставлении гранта производителю микросхем GlobalFoundries для стимулирования расширения производства к северу от Олбани и Вермонта. В апреле США продолжили анонсировать пакет в размере 6,1 млрд долларов для Micron по производству современных микросхем памяти.

Фотолитография — это процесс печати принципиальной схемы на светочувствительной поверхности кремниевой пластины путем направления светового луча на кремниевую пластину через стеклянную пластину, на которой нарисована принципиальная схема.

Для меньших схем требуются источники света с более короткой длиной волны, при этом наиболее передовой разработкой на сегодняшний день является экстремальный ультрафиолет (EUV).

В последние годы ASML стала «монополистом» на рынке поставок фотолитографических машин, превратив голландскую компанию в «узкое место» в цепочке поставок полупроводников.

TSMC и ASML могут удаленно отключать оборудование для литья микросхем SCMP со ссылкой на источники сообщает, что у TSMC и ASML есть способы удаленно отключать самые современные в мире машины для литья микросхем в случае геополитического кризиса.

Эти заводы по производству микросхем также являются горячим «фронтом» между Вашингтоном и Пекином. В настоящее время самая передовая машина EUV High-NA продается компанией ASML за 380 миллионов долларов США. Ранее в этом году она поставила первую машину Intel, а вторую — «неустановленному покупателю».

Не только США, но и звенья глобальной цепочки поставок полупроводников пытаются самостоятельно производить EUV.

В начале августа японские исследователи (OIST) заявили, что им удалось разработать более простую и дешевую машину для EUV-литографии. Мало того, устройство имеет более простую конструкцию, чем традиционная система ASML, например, в нем всего два оптических зеркала вместо шести по умолчанию.

Новая машина EUV, имеющая более простую конструкцию и более низкую стоимость по сравнению с оборудованием ASML, при условии ее массового производства может кардинально изменить отрасль литья микросхем, оказав тем самым влияние на всю полупроводниковую промышленность.

Кроме того, одним из преимуществ машины является повышенная надежность и снижение сложности обслуживания. Значительное снижение энергопотребления также является сильной стороной новой системы.

Благодаря оптимизированному световому пути система работает с источником EUV-света мощностью всего 20 Вт, что обеспечивает общее энергопотребление менее 100 кВт. Между тем, традиционные системы EUV обычно требуют более 1 МВт мощности.

Компания OIST подала патентную заявку на технологию и заявила, что продолжит разработку машины EUV-литографии для практического применения. Ожидается, что мировой рынок машин EUV вырастет с 8,9 млрд долларов США в 2024 году до 17,4 млрд долларов США в 2030 году.

(По данным Fortune, Bloomberg)