뉴욕의 올버니 나노테크 단지에 위치한 EUV 가속기라는 이름의 새로운 센터는 CHIPS 법의 후원으로 설립된 최초의 연구 개발(R&D) 시설입니다.

미국 반도체 산업을 발전시키는 것을 목표로 하는 EUV 가속기에는 최첨단 칩 제조 장비가 장착될 예정이며, 이를 통해 업계 연구자들이 대학의 교육 파트너와 협업할 수 있게 됩니다.

슈머 상원의원은 "미국에서 첨단 연구가 수행되면 우리는 세계에서 가장 진보된 칩을 만들어낼 수 있고, 이는 우리에게 군사적 이점을 제공할 것"이라고 말했습니다. "물론, 이를 통해 미국 경제와 기업이 첨단 반도체 분야에서 우위를 점하게 됩니다."

미국 정부는 EUV를 첨단 칩 생산에 중요한 기술로 여기고 이 기술을 완벽히 습득하는 것을 목표로 하고 있습니다.

워싱턴은 또한 EUV 접근성, 연구 개발이 미국의 리더십을 확대하고, 프로토타입 제작 시간과 비용을 줄이고, 반도체 인력 생태계를 구축하고 유지하는 데 필요하다고 믿고 있습니다.

EUV 가속기가 가동되면 첨단 고개구율 EUV 개발과 기타 EUV 기반 기술 연구에 집중할 것으로 예상됩니다.

이 센터는 내년에는 표준 EUV NA에 대한 접근성을 제공하고, 2026년에는 미국 국립 반도체 기술 센터(NTSC)와 Natcast 회원들에게 고NA EUV에 대한 접근성을 제공할 것으로 예상됩니다.

미국 상무부 장관 지나 라이몬도는 "이 센터의 출범은 미국이 반도체 혁신 분야에서 글로벌 리더로서의 지위를 유지하는 데 중요한 이정표가 될 것"이라고 말했습니다.

2월에 바이든 행정부는 올버니와 버몬트 북부의 제조업 확장을 촉진하기 위해 칩 제조업체 글로벌파운드리에 보조금을 지원한다고 발표했습니다. 4월, 미국은 마이크론이 첨단 메모리 칩을 생산하도록 61억 달러를 지원한다고 발표했습니다.

광리소인쇄는 회로도가 그려진 유리판을 통해 실리콘 웨이퍼에 광선을 비춰서 실리콘 웨이퍼의 감광 표면에 회로도를 인쇄하는 공정입니다.

더 작은 회로에는 더 짧은 파장의 광원이 필요하며, 극자외선(EUV)은 현재 가장 진보된 기술입니다.

최근 몇 년 동안 ASML은 포토리소그래피 장비 공급에 있어 "독점"을 차지해 왔으며, 이로 인해 네덜란드 기업은 반도체 공급망의 "병목 현상"에 빠지게 되었습니다.

TSMC와 ASML은 지정학적 위기 발생 시 세계에서 가장 현대적인 칩 파운드리 장비를 원격으로 비활성화할 수 있는 방법을 갖고 있다고 SCMP가 소식통을 인용해 보도했습니다.

이러한 칩 파운드리는 워싱턴과 베이징 사이의 뜨거운 '전면'이기도 합니다. 현재 가장 진보된 EUV High-NA 머신은 ASML에서 3억 8천만 달러에 판매되고 있으며, 올해 초에는 첫 번째 제품을 인텔에, 두 번째 제품을 "신원이 확인되지 않은 고객"에 배송했습니다.

미국뿐만 아니라 글로벌 반도체 공급망의 일부도 EUV를 직접 생산하려고 노력하고 있습니다.

8월 초, 일본 연구진(OIST)은 더 간단하고 저렴한 EUV 리소그래피 장비를 개발하는 데 성공했다고 밝혔습니다. 뿐만 아니라 이 장치는 기존의 ASML 시스템보다 설계가 더 간단합니다. 예를 들어, 기본 6개 대신 광학 거울 2개만 사용합니다.

ASML의 장비보다 구조가 간단하고 가격도 저렴한 새로운 EUV 장비가 대량 생산된다면 칩 파운드리 산업의 판도를 바꿔, 반도체 산업 전체에 영향을 미칠 수 있습니다.

또한, 이 기계의 장점 중 하나는 신뢰성이 높아지고 유지관리의 복잡성이 줄어든다는 것입니다. 새로운 시스템의 또 다른 장점은 전력 소비가 크게 감소했다는 점입니다.

최적화된 광 경로 덕분에 이 시스템은 단 20W의 EUV 광원으로 작동하며, 총 전력 소비량은 100kW 미만입니다. 반면, 기존의 EUV 시스템은 일반적으로 1MW 이상의 전력이 필요합니다.

OIST는 해당 기술에 대한 특허를 출원했으며, 실용적인 응용을 위해 EUV 리소그래피 장비를 계속 개발할 것이라고 밝혔습니다. 글로벌 EUV 장비 시장은 2024년 89억 달러에서 2030년 174억 달러로 성장할 것으로 예상됩니다.

(포춘, 블룸버그에 따르면)